FIB-SEMデュアルビーム加工観察装置
| 設備ID | IT-023 |
|---|---|
| 分類 | 微小加工装置 > 集束イオンビーム（FIB） |
| 装置名称 | FIB-SEMデュアルビーム加工観察装置 (FIB-SEM Dual Beam System) |
| 設置機関 | 東京工業大学 |
| 設置場所 | 東工大大岡山キャンパス |
| メーカー名 | 日本電子 (JEOL) |
| 型番 | JIB-4501 |
| キーワード | 微細構造断面観察、集束イオンビーム（FIB）/ Focused ion beam |
| 仕様・特徴 | FIB部分 Ga 液体金属イオン源、加速電圧 1-30kV,ビーム電流最大60nA以上 SEM部分 加速電圧0.3-30kV 分解能 3nm以下 |
