FIB-SEMデュアルビーム加工観察装置
最終更新日：2024年10月1日
| 設備ID | IT-023 |
|---|---|
| 分類 | 微小加工装置 > 集束イオンビーム（FIB） |
| 設備名称 | FIB-SEMデュアルビーム加工観察装置 (FIB-SEM Dual Beam System) |
| 設置機関 | 国立大学法人 東京科学大学（旧：国立大学法人 東京工業大学） |
| 設置場所 | 科学大（旧：東工大）大岡山キャンパス |
| メーカー名 | 日本電子 (JEOL) |
| 型番 | JIB-4501 |
| キーワード | 微細構造断面観察、集束イオンビーム（FIB）/ Focused ion beam |
| 仕様・特徴 | FIB部分 Ga 液体金属イオン源、加速電圧 1-30kV,ビーム電流最大60nA以上 SEM部分 加速電圧0.3-30kV 分解能 3nm以下 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=IT-023 |
