ウェハ洗浄装置
設備ID | IT-020 |
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分類 | 組立・パッケージング > 接合・接着 |
装置名称 | ウェハ洗浄装置 (Single Wafer Cleaning System) |
設置機関 | 東京工業大学 |
設置場所 | 東工大大岡山キャンパス |
メーカー名 | EVG (EVG) |
型番 | EVG301 |
キーワード | 異種基板張り合わせ用、ウェット処理/ Wet processing |
仕様・特徴 | ・PVA製スポンジブラシ洗浄 ・メガソニック洗浄(最大振動子出力:40 W) ・対応基板サイズ:2インチウェハ/2 cm×2 cm角/3 cm×3 cm角 |