スパッタ成膜装置(絶縁膜用)
設備ID | IT-018 |
---|---|
分類 | 成膜装置 > スパッタリング(スパッタ) |
装置名称 | スパッタ成膜装置(絶縁膜用) (Insulator Sputtering machine) |
設置機関 | 東京工業大学 |
設置場所 | 東工大大岡山キャンパス |
メーカー名 | ケーサイエンス (K-science Inc) |
型番 | KS-702KAM |
キーワード | 金属薄膜形成、スッパタリング(スパッタ)/ Sputtering |
仕様・特徴 | ゲージコントローラ、CDGコントローラ装備 ・膜厚計装備 ・スパッタコントローラ装備 ・SiN、Ta2O3、SiO2 最大2インチ程度まで |