スパッタ成膜装置(絶縁膜用）
最終更新日：2024年10月1日
| 設備ID | IT-018 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > スパッタリング（スパッタ） |
| 設備名称 | スパッタ成膜装置(絶縁膜用） (Insulator Sputtering machine) |
| 設置機関 | 国立大学法人 東京科学大学（旧：国立大学法人 東京工業大学） |
| 設置場所 | 科学大（旧：東工大）大岡山キャンパス |
| メーカー名 | ケーサイエンス (K-science Inc) |
| 型番 | KS-702KAM |
| キーワード | 金属薄膜形成、スッパタリング（スパッタ）/ Sputtering |
| 仕様・特徴 | ゲージコントローラ、CDGコントローラ装備 ・膜厚計装備 ・スパッタコントローラ装備 ・SiN、Ta2O3、SiO2 最大2インチ程度まで |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=IT-018 |
