SiN/a-SiプラズマCVD 装置
最終更新日：2024年10月1日
| 設備ID | IT-016 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > 化学蒸着(CVD)装置 |
| 設備名称 | SiN/a-SiプラズマCVD 装置 (SiN/a-Si plasma enhanced CVD) |
| 設置機関 | 国立大学法人 東京科学大学（旧：国立大学法人 東京工業大学） |
| 設置場所 | 科学大（旧：東工大）大岡山キャンパス |
| メーカー名 | 住友精密工業 (STS) |
| 型番 | Multiplex-CVD |
| キーワード | 絶縁物薄膜形成、化学蒸着（CVD）装置/ Chemical vapor deposition (CVD) |
| 仕様・特徴 | シリコン窒化膜/アモルファスシリコンの成膜 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=IT-016 |
