SiN/a-SiプラズマCVD 装置
| 設備ID | IT-016 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > 化学蒸着(CVD)装置 |
| 装置名称 | SiN/a-SiプラズマCVD 装置 (SiN/a-Si plasma enhanced CVD) |
| 設置機関 | 東京工業大学 |
| 設置場所 | 東工大大岡山キャンパス |
| メーカー名 | 住友精密工業 (STS) |
| 型番 | Multiplex-CVD |
| キーワード | 絶縁物薄膜形成、化学蒸着（CVD）装置/ Chemical vapor deposition (CVD) |
| 仕様・特徴 | シリコン窒化膜/アモルファスシリコンの成膜 |
