SiO2プラズマCVD 装置
設備ID | IT-015 |
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分類 | 成膜装置 > 化学蒸着(CVD)装置 |
装置名称 | SiO2プラズマCVD 装置 (SiO2 Plasma enhanced CVD) |
設置機関 | 東京工業大学 |
設置場所 | 東工大大岡山キャンパス |
メーカー名 | サムコ (Samco) |
型番 | PD-100ST |
キーワード | 絶縁物薄膜形成、化学蒸着(CVD)装置/ Chemical vapor deposition (CVD) |
仕様・特徴 | PD-100ST 使用ガス: TEOS、O2、CF4 最大3インチまで |