コンタクト光学露光装置
| 設備ID | IT-005 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクアライナ） |
| 装置名称 | コンタクト光学露光装置 (Contact optical exposure) |
| 設置機関 | 東京工業大学 |
| 設置場所 | 東工大大岡山キャンパス |
| メーカー名 | ズース ( Süss) |
| 型番 | MA-8 |
| キーワード | 微細構造形成、光露光（マスクアライナ）/ Optical exposure (mask aligner) |
| 仕様・特徴 | ・アシスト機能装備、TSA/BSA装備 ・表面アライメント制度 TSA：±0.25μm以下 BSA：±1.00μm以下 ・露光解像度 0.5μm ・対応基板 小片～直径2inch ウェハ |
