マスクレス露光装置
設備ID | IT-004 |
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分類 | リソグラフィ > 光露光(マスクレス、直接描画) |
装置名称 | マスクレス露光装置 (Maskless exposure system) |
設置機関 | 東京工業大学 |
設置場所 | 東工大大岡山キャンパス |
メーカー名 | 大日本科研 (Japan Science Engineering Co., Ltd.) |
型番 | MX-1204 |
キーワード | 微細構造形成光露光(マスクレス、直接描画)/ Optical exposure (maskless and direct drawing) |
仕様・特徴 | DMDによるパターン生成露光、150mm角露光サイズ、最小描画画素2μm、アライメント精度±0.15μm |