マスクレス露光装置
| 設備ID | IT-003 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクレス、直接描画） |
| 装置名称 | マスクレス露光装置 (Maskless exposure system) |
| 設置機関 | 東京工業大学 |
| 設置場所 | 東工大大岡山キャンパス |
| メーカー名 | 大日本科研 (Japan Science Engineering Co., Ltd.) |
| 型番 | MX-1205 |
| キーワード | 微細構造形成、光露光（マスクレス、直接描画）/ Optical exposure (maskless and direct drawing) |
| 仕様・特徴 | DMDによるパターン生成露光、100mm角露光サイズ、最小描画画素1μm、アライメント精度±0.15μm データ取り込み機能 |
