電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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最終更新日:2024年10月1日
設備ID | IT-002 |
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分類 | リソグラフィ > その他 |
設備名称 | 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア (Electron beam exposure ) |
設置機関 | 国立大学法人 東京科学大学(旧:国立大学法人 東京工業大学) |
設置場所 | 科学大(旧:東工大)大岡山キャンパス |
メーカー名 | GenISys (GenISys) |
型番 | Beamer |
キーワード | 微細構造形成支援 |
仕様・特徴 | JEOL01,51,52などの日本電子製電子ビーム露光用パターンデータファイルが入出力可能。 各露光基板形状に基づいたモンテカルロシミュレーションによって点拡がり関数(PSF)を導出でき、得られたPSFに基づく近接効果補正が可能。 |
設備状況 | 共用を終了した設備です |
本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=IT-002 |