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電子ビーム露光データ加工ソフトウェア

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最終更新日:2024年10月1日
設備ID IT-002
分類 リソグラフィ > その他
設備名称 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア (Electron beam exposure )
設置機関 国立大学法人 東京科学大学(旧:国立大学法人 東京工業大学)
設置場所 科学大(旧:東工大)大岡山キャンパス
メーカー名 GenISys (GenISys)
型番 Beamer
キーワード 微細構造形成支援
仕様・特徴 JEOL01,51,52などの日本電子製電子ビーム露光用パターンデータファイルが入出力可能。
各露光基板形状に基づいたモンテカルロシミュレーションによって点拡がり関数(PSF)を導出でき、得られたPSFに基づく近接効果補正が可能。
設備状況 共用を終了した設備です
本設備の利用事例 https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=IT-002
    電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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