電子ビーム露光装置
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最終更新日:2024年10月1日
設備ID | IT-001 |
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分類 | > |
設備名称 | 電子ビーム露光装置 (Electron beam lithograph system) |
設置機関 | 国立大学法人 東京科学大学(旧:国立大学法人 東京工業大学) |
設置場所 | 科学大(旧:東工大)大岡山キャンパス |
メーカー名 | 日本電子 (JEOL) |
型番 | JBX-6300SJ |
キーワード | 微細構造形成 |
仕様・特徴 | スポットビーム、ベクタースキャン方式。 ビーム径3nm以下(100kV)、最少線幅10nm以下。 重ね合わせ精度/重ね合わせ精度10nm以下。試料最大100㎜φウエハまで(不定形可能) |
設備状況 | 共用を終了した設備です |
本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=IT-001 |