共用設備検索

電子ビーム露光装置

本設備の共用は終了しています。
後継の設備や同様の設備は、「共用設備検索」から検索するか「技術サポート・機器利用のお問い合わせ」よりお問い合わせください。

最終更新日:2024年10月1日
設備ID IT-001
分類 >
設備名称 電子ビーム露光装置 (Electron beam lithograph system)
設置機関 国立大学法人 東京科学大学(旧:国立大学法人 東京工業大学)
設置場所 科学大(旧:東工大)大岡山キャンパス
メーカー名 日本電子 (JEOL)
型番 JBX-6300SJ 
キーワード 微細構造形成
仕様・特徴 スポットビーム、ベクタースキャン方式。 ビーム径3nm以下(100kV)、最少線幅10nm以下。 重ね合わせ精度/重ね合わせ精度10nm以下。試料最大100㎜φウエハまで(不定形可能)
設備状況 共用を終了した設備です
本設備の利用事例 https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=IT-001
    電子ビーム露光装置
    電子ビーム露光装置
印刷する
PAGE TOP
スマートフォン用ページで見る