高性能分光エリプソメータ
最終更新日:2024年4月5日
設備ID | WS-026 |
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分類 | 膜厚・粒度測定 > エリプソメーター |
設備名称 | 高性能分光エリプソメータ (Spectroscopic Ellipsometry) |
設置機関 | 早稲田大学 |
設置場所 | 早稲田大学121号館ナノテクノロジーリサーチセンター |
メーカー名 | 株式会社堀場製作所 (HORIBA, Ltd.) |
型番 | UVISEL ER AGMS iHR320 |
キーワード | 分光エリプソ エリプソメーター |
仕様・特徴 | 波長範囲:190-2100nm 150mmウェハ対応、XY軸はマニュアルステージ |
設備状況 | 稼働中 |
本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=WS-026 |