レーザー直接描画装置
最終更新日：2024年4月5日
| 設備ID | WS-016 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクレス、直接描画） |
| 設備名称 | レーザー直接描画装置 (Advanced Maskless Aligner ) |
| 設置機関 | 早稲田大学 |
| 設置場所 | 早稲田大学121号館ナノテクノロジーリサーチセンター |
| メーカー名 | ハイデルベルグ・ジャパン株式会社 (Heidelberger Druckmaschinen AG) |
| 型番 | MLA150 |
| キーワード | マスク作成可能 光露光（マスクレス、直接描画） |
| 仕様・特徴 | (375nm Diode、SU-8対応) |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=WS-016 |
