紫外線露光装置
設備ID | WS-014 |
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分類 | リソグラフィ > 光露光(マスクアライナ) |
装置名称 | 紫外線露光装置 (ultraviolet lithography) |
設置機関 | 早稲田大学 |
設置場所 | 早稲田大学121号館ナノテクノロジーリサーチセンター |
メーカー名 | ズース マイクロテック グループ (SUSS MicroTec Group) |
型番 | MA6/BA6 |
キーワード | UV露光・375nm 光露光(マスクアライナ) |
仕様・特徴 | ズースマイクロテック社製MA6 小片~4インチまで露光可能 最小線幅1μm UV両面マスクアライナー |