集束イオン/電子ビーム加工観察装置
最終更新日：2024年4月5日
| 設備ID | WS-010 |
|---|---|
| 分類 | 微小加工装置 > 集束イオンビーム（FIB） |
| 設備名称 | 集束イオン/電子ビーム加工観察装置 (Focused Ion Beam Scanning Electron Microscopy) |
| 設置機関 | 早稲田大学 |
| 設置場所 | 早稲田大学121号館ナノテクノロジーリサーチセンター |
| メーカー名 | 株式会社 日立ハイテク (Hitachi High-Tech Corporation) |
| 型番 | NB-5000 |
| キーワード | FIB 集束イオンビーム（FIB） |
| 仕様・特徴 | FIB加工中の同時SEM観察可能 ～80万倍, 試料サイズ最大30mmΦ エネルギー分散型X線元素分析機能（EDAX） ・ シリコンドリフトディテクター （SDD検出器） ・ エネルギー分解能： 133eV以下 ・ 検出元素：B～U ・ 定性分析／定量分析／マッピング機能搭載 STEM機能付き（薄膜化した後の高精度観察が可能） |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=WS-010 |
