ウエハRTA装置
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最終更新日：2024年8月28日
| 設備ID | NM-620 |
|---|---|
| 分類 | > |
| 設備名称 | ウエハRTA装置 (Wafer RTA) |
| 設置機関 | 物質・材料研究機構 (NIMS) |
| 設置場所 | NIMS千現地区 材料信頼性実験棟 |
| メーカー名 | ハイソル (HiSOL) |
| 型番 | AccuThermo AW610 |
| キーワード | 熱処理、RTA、RTP、アニール、合金化 |
| 仕様・特徴 | ・用途：小片～φ6インチの急速アニール ・加熱方式：赤外線ランプ加熱方式 ・プロセス温度：800度以下 ・昇温速度：150度／秒以下＠Siウエハ、40度／秒以下＠SiCサセプタ ・プロセスガス：N2, Ar, Ar+H2(3%), O2 ・最大試料サイズ：φ6inch |
| 設備状況 | 共用を終了した設備です |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NM-620 |
