電子ビーム蒸着装置
最終更新日:2024年4月5日
設備ID | WS-003 |
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分類 | 成膜装置 > 蒸着(抵抗加熱、電子線) |
設備名称 | 電子ビーム蒸着装置 (Electron Beam Vaper Deposition system ) |
設置機関 | 早稲田大学 |
設置場所 | 早稲田大学121号館ナノテクノロジーリサーチセンター |
メーカー名 | 株式会社アルバック (ULVAC, Inc.) |
型番 | EBX-6D |
キーワード | 積層成膜 蒸着(抵抗加熱、電子線) |
仕様・特徴 | 試料サイズ 4インチ以下(プラネタリーホルダーにより、複数枚成膜可能) 金属(Cu, Cr, Ni, Al, Au, Ag等)および絶縁膜(SiO2, ZnO等)の成膜 |
設備状況 | 稼働中 |
本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=WS-003 |