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電子ビーム蒸着装置

最終更新日:2024年4月5日
設備ID WS-003
分類 成膜装置 > 蒸着(抵抗加熱、電子線)
設備名称 電子ビーム蒸着装置 (Electron Beam Vaper Deposition system )
設置機関 早稲田大学
設置場所 早稲田大学121号館ナノテクノロジーリサーチセンター
メーカー名 株式会社アルバック (ULVAC, Inc.)
型番 EBX-6D
キーワード 積層成膜
蒸着(抵抗加熱、電子線)
仕様・特徴 試料サイズ 4インチ以下(プラネタリーホルダーにより、複数枚成膜可能)
金属(Cu, Cr, Ni, Al, Au, Ag等)および絶縁膜(SiO2, ZnO等)の成膜
設備状況 稼働中
本設備の利用事例 https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=WS-003
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