電子ビーム蒸着装置
設備ID | WS-002 |
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分類 | 成膜装置 > 蒸着(抵抗加熱、電子線) |
装置名称 | 電子ビーム蒸着装置 (Electron Beam Vaper Deposition system ) |
設置機関 | 早稲田大学 |
設置場所 | 早稲田大学121号館ナノテクノロジーリサーチセンター |
メーカー名 | キヤノンアネルバ株式会社 (CANON ANELVA CORPORATION) |
型番 | EVC-1501 |
キーワード | 配線材料専用 蒸着(抵抗加熱、電子線) |
仕様・特徴 | 試料サイズ 4インチ以下 Au, Cr, Ti専用 4インチウエハ18枚同時成膜可能(プラネタリーホルダー) |