リアル表面プローブ顕微鏡(RSPM)
最終更新日:2024年4月5日
設備ID | AT-504 |
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分類 |
走査型顕微鏡 > 走査型プローブ顕微鏡 状態分析(各種分光法(元素分析・振動モード・電子状態)を含む) > 赤外分光 回折・散乱 > 電子回折 |
設備名称 | リアル表面プローブ顕微鏡(RSPM) (Real Surface Probe Microscope (RSPM) ) |
設置機関 | 産業技術総合研究所(AIST) |
設置場所 | 産業技術総合研究所 |
メーカー名 | (1) RSPM1: 日本電子、(2) RSPM2: SII(現・日立ハイテクサイエンス) ((1) RSPM1: JEOL, (2) RSPM2: SII (Hitachi Hitech Scinece)) |
型番 | (1) RSPM1:日本電子(JEOL)社製JSPM5400、(2) RSPM2:SIIナノテクノロジー(現・日立ハイテクサイエンス)社E-SWEEP/S-Image |
キーワード | ナノ構造3次元測定、溶液リアルタイム観察、ナノ赤外分光、実環境表面電位測定、低エネルギー電子回折 走査型プローブ顕微鏡、NanoIR、SPM、弾性率、AFM、STM |
仕様・特徴 | (1) RSPM1 分光(赤外)原子間力顕微鏡、走査型トンネル顕微鏡 ・型式: NEA SNOM ・設置室名: 2-1D棟125室 ・測定機能: AM-AFM、コンタクトモード、高分解能赤外分光 ・測定環境: 大気中 ・試料サイズ:(10mm角)や厚さの制限有 ・空間分解能<100nmのナノ赤外分光(Nano-FTIR) (2) RSPM2 E-SWEEP/NEX(高速原子間力顕微鏡) ・測定機能: AM-AFM、コンタクトモード、STM、KFM、Conductive-AFM ・制御装置: 1台のNanonaviをS-ImageおよびE-SWEEPで切り替えて利用 ・測定環境: 大気中、恒湿度雰囲気(20~70%)、液中、真空中(10E-5[Torr]) ・温度範囲(E-SWEEP): -100 ℃ ~ 300 ℃(ヒータのみ、制御なし) ・試料サイズ: 最大15 mm角程度 ・液中リアルタイム測定可能(毎秒10フレーム) 前処理装置等 ・標準試料: 探針評価、スケール、段差等 ・付帯設備 研磨機、プラズマクリーナ、白色干渉計、反射分光膜厚計、化学ドラフト、フーリエ赤外分光計(ATRのみ)、レーザードップラー干渉計(カンチレバーのばね定数校正) |
設備状況 | 稼働中 |
本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=AT-504 |