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6インチ電子ビーム真空蒸着装置(アールデック)

最終更新日:2024年4月5日
設備ID AT-109
分類 成膜装置 > 蒸着(抵抗加熱、電子線)
設備名称 6インチ電子ビーム真空蒸着装置(アールデック) (Electeron Beam Vacuum Evaporator)
設置機関 産業技術総合研究所(AIST)
設置場所 AISTつくば中央 2-12棟
メーカー名 アールデック (R-DEC)
型番 ADS-E86
キーワード 成膜
EB蒸着
真空蒸着
蒸着(電子線)/ Evaporation (electron beam)
仕様・特徴 ・型式:ADS-E86
・試料サイズ:8インチφ
・蒸着方式:電子ビーム加熱蒸発
・蒸発源:6連装(6 kW)
・クルーシブル容量:12 ml
・基板ホルダ:冷却機構付(水冷)
・蒸発源―基板間:500 mm
・試料導入:ロードロック自動搬送
・真空排気システム:到達圧力1×10-5 Pa以下、オイルフリー、自動排気
・成膜:水晶振動子膜厚モニタによる自動制御
・膜厚分布:10 %以内@200mm
・常設ソース材料: Al, Al, Cu, Ti,
設備状況 稼働中
本設備の利用事例 https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=AT-109
    6インチ電子ビーム真空蒸着装置(アールデック)
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