6インチ電子ビーム真空蒸着装置(アールデック)
最終更新日:2024年4月5日
設備ID | AT-109 |
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分類 | 成膜装置 > 蒸着(抵抗加熱、電子線) |
設備名称 | 6インチ電子ビーム真空蒸着装置(アールデック) (Electeron Beam Vacuum Evaporator) |
設置機関 | 産業技術総合研究所(AIST) |
設置場所 | AISTつくば中央 2-12棟 |
メーカー名 | アールデック (R-DEC) |
型番 | ADS-E86 |
キーワード | 成膜 EB蒸着 真空蒸着 蒸着(電子線)/ Evaporation (electron beam) |
仕様・特徴 | ・型式:ADS-E86 ・試料サイズ:8インチφ ・蒸着方式:電子ビーム加熱蒸発 ・蒸発源:6連装(6 kW) ・クルーシブル容量:12 ml ・基板ホルダ:冷却機構付(水冷) ・蒸発源―基板間:500 mm ・試料導入:ロードロック自動搬送 ・真空排気システム:到達圧力1×10-5 Pa以下、オイルフリー、自動排気 ・成膜:水晶振動子膜厚モニタによる自動制御 ・膜厚分布:10 %以内@200mm ・常設ソース材料: Al, Al, Cu, Ti, |
設備状況 | 稼働中 |
本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=AT-109 |