原子層堆積装置_3付帯ＸＰＳ装置（アルバック・ファイ）
最終更新日：2022年6月14日
| 設備ID | AT-103 |
|---|---|
| 分類 |
状態分析（各種分光法（元素分析・振動モード・電子状態）を含む） > X線光電子分光
（XPS（硬X線を含む）） 成膜装置 > 原子層堆積(ALD)装置 |
| 設備名称 | 原子層堆積装置_3付帯ＸＰＳ装置（アルバック・ファイ） (X-ray Photoelectron Spectroscopy Analysis System (XPS)) |
| 設置機関 | 産業技術総合研究所（AIST) |
| 設置場所 | AISTつくば中央 2-12棟 |
| メーカー名 | アルバック・ファイ (ULVAC-PHI,) |
| 型番 | Quantera II |
| キーワード | X線光電子分光 XPS 表面分析 自然酸化膜除去 組成分析 ケミカルシフト 結合価数の評価 Arスパッタリング 深さプロファイル 光電子脱出角度分解測定 |
| 仕様・特徴 | ・型式:Quantera II ・試料サイズ:4インチφ ・X線源:単色化Al kα(ローランド直径 200 mm) ・光電子分光器:静電半球型(軌道直径279.4 mm) ・検出器:マルチチャネル検出器 (32 ch) ・スペクトル分析:0～1467 eV ・イメージング:最小ビーム径7.5μm, 最大走査範囲1.4 mmx1.4 mmのSXIイメージング ・最小スペクトル分析面積:7.5μmφ (20% - 80% knife edge法) ・エネルギ分解能:0.48 eV（Ag 3d5/2光電子ピーク半値幅） ・帯電中和:10 eV以下電子と5～10 eV Arイオン同時照射 ・光電子取り出し角度:45°(標準) |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=AT-103 |
