サムコ原子層堆積装置_2[AD-100LP]
| 設備ID | AT-099 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > 原子層堆積(ALD)装置 |
| 装置名称 | サムコ原子層堆積装置_2[AD-100LP] (Atomic Layer Deposition_2〔AD-100LP〕) |
| 設置機関 | 産業技術総合研究所（AIST) |
| 設置場所 | AISTつくば中央 2-12棟 |
| メーカー名 | サムコ (Samco) |
| 型番 | AD-100LP |
| キーワード | 原子層堆積 ALD リモートプラズマ ダイレクトプラズマ TMA BDEAS ピュアオゾン 低温成膜 |
| 仕様・特徴 | ・型式: AD100-LP (サムコ株式会社) ・試料サイズ:4インチ（2インチは3枚まで搭載可能） ・ステージ温度：50 ～ 500℃ ・放電方式: 誘導結合式ICPプラズマ（ダウンフロー型、リモート型） ・ICP高周波電源: 300W（13.56MHz） ・試料導入方式: ロードロック式 ・キャリアガス:N2 ・反応ガス:H2O, O2、ピュアオゾン, N2、NH3、H2、Ar ・材料ガス:TMA,BDEAS |
![サムコ原子層堆積装置_2[AD-100LP]](data/facility_item/AT-099.jpg)