ECRスパッタ成膜・ミリング装置
設備ID | AT-098 |
---|---|
分類 |
成膜装置 > スパッタリング(スパッタ) 微小加工装置 > イオンミリング(断面加工) |
装置名称 | ECRスパッタ成膜・ミリング装置 (ECR sputter deposition and milling system) |
設置機関 | 産業技術総合研究所(AIST) |
設置場所 | AISTつくば中央 2-12棟 |
メーカー名 | エリオニクス (ELIONIX) |
型番 | EIS-200ERP |
キーワード | スパッタリング(スパッタ) ECRスパッタ成膜 ECRイオンエッチング リフトオフ 側壁バリの除去 |
仕様・特徴 | ・型式:EIS-200ERP ・試料サイズ:75 mmφ ・イオンソース:ECR方式 ・ガス種:Ar (最大流量5sccm) ・圧力:0.01 Pa ・加速電圧:30~3000 V ・マイクロ波:最大100 W ・材料ターゲットサイズ:100 mmφ |