ECRスパッタ成膜・ミリング装置
最終更新日：2024年4月5日
| 設備ID | AT-098 |
|---|---|
| 分類 |
成膜装置 > スパッタリング（スパッタ） 微小加工装置 > イオンミリング（断面加工） |
| 設備名称 | ECRスパッタ成膜・ミリング装置 (ECR sputter deposition and milling system) |
| 設置機関 | 産業技術総合研究所（AIST) |
| 設置場所 | AISTつくば中央 2-12棟 |
| メーカー名 | エリオニクス (ELIONIX) |
| 型番 | EIS-200ERP |
| キーワード | スパッタリング（スパッタ） ECRスパッタ成膜 ECRイオンエッチング リフトオフ 側壁バリの除去 |
| 仕様・特徴 | ・型式:EIS-200ERP ・試料サイズ:75 mmφ ・イオンソース:ECR方式 ・ガス種:Ar (最大流量5sccm) ・圧力:0.01 Pa ・加速電圧:30～3000 V ・マイクロ波:最大100 W ・材料ターゲットサイズ:100 mmφ |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=AT-098 |
