原子層エッチング装置 [PlasmaPro 100 ALE]
| 設備ID | NM-618 |
|---|---|
| 分類 | 膜加工・エッチング > プラズマエッチング |
| 装置名称 | 原子層エッチング装置 [PlasmaPro 100 ALE] (ALE [PlasmaPro 100 ALE]) |
| 設置機関 | 物質・材料研究機構 (NIMS) |
| 設置場所 | NIMS千現地区 材料信頼性実験棟 |
| メーカー名 | オックスフォード・インストゥルメンツ (Oxford Instruments) |
| 型番 | PlasmaPro 100 Cobra 300 ALE |
| キーワード | RIE、ALE、原子層エッチング、ICP、塩素系ガス、GaN、プラズマエッチング/ Plasma etching |
| 仕様・特徴 | ・用途：GaN、GaAs、化合物半導体のドライエッチング ・プラズマ励起方式：誘導結合型 ・電源出力：ICP出力：最大3kW／バイアス出力：最大300W ・プロセスガス：Cl2，BCl3，SF6，Ar，N2，O2 ・試料ステージ温度：-30～+80度 ・最大試料サイズ：φ6インチ（オプションで8インチ可） ・その他：ICP エッチング加工, ALE プロセス, 終点検出機能装備 |
![原子層エッチング装置 [PlasmaPro 100 ALE]](data/facility_item/NM-618.jpg)