分光エリプソメータ
最終更新日:2022年4月9日
設備ID | AT-063 |
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分類 | 膜厚・粒度測定 > エリプソメーター |
設備名称 | 分光エリプソメータ (Spectroscopic Ellipsometer) |
設置機関 | 産業技術総合研究所(AIST) |
設置場所 | AISTつくば中央 2-12棟 |
メーカー名 | 堀場 Jovin-Yvon (Horiba Jovin-Yvon) |
型番 | UVISEL-M200-FUV-FGMS |
キーワード | 分光エリプソメータ 膜厚 屈折率 消衰係数 薄膜 多層膜構造 |
仕様・特徴 | ・型式:UVISEL-M200-FUV-FGMS ・試料サイズ:150mmφ ・ステージ上下調整幅:20mm ・波長範囲:190~826nm(1.5~6.5eV) |
設備状況 | 稼働中 |
本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=AT-063 |