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分光エリプソメータ

最終更新日:2022年4月9日
設備ID AT-063
分類 膜厚・粒度測定 > エリプソメーター
設備名称 分光エリプソメータ (Spectroscopic Ellipsometer)
設置機関 産業技術総合研究所(AIST)
設置場所 AISTつくば中央 2-12棟
メーカー名 堀場 Jovin-Yvon (Horiba Jovin-Yvon)
型番 UVISEL-M200-FUV-FGMS
キーワード 分光エリプソメータ
膜厚
屈折率
消衰係数
薄膜
多層膜構造
仕様・特徴 ・型式:UVISEL-M200-FUV-FGMS
・試料サイズ:150mmφ
・ステージ上下調整幅:20mm
・波長範囲:190~826nm(1.5~6.5eV)
設備状況 稼働中
本設備の利用事例 https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=AT-063
    分光エリプソメータ
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