シリコンDRIE装置 [ASE-SRE]
最終更新日：2024年2月29日
| 設備ID | NM-616 |
|---|---|
| 分類 | 膜加工・エッチング > プラズマエッチング |
| 設備名称 | シリコンDRIE装置 [ASE-SRE] (Si Deep RIE [ASE-SRE]) |
| 設置機関 | 物質・材料研究機構 (NIMS) |
| 設置場所 | NIMS千現地区 材料信頼性実験棟 |
| メーカー名 | 住友精密工業 (Sumitomo Precision Products) |
| 型番 | MUC-21 ASE-SRE |
| キーワード | RIE、ボッシュ、シリコン、深掘り、MEMS、貫通、TSV、プラズマエッチング/ Plasma etching |
| 仕様・特徴 | ・用途：MEMS等，シリコン深掘エッチング ・プラズマ励起方式：誘導結合型 ・電源出力：ICP出力：最大1kW／バイアス出力：最大100W ・プロセスガス：SF6，C4F8，Ar，O2 ・試料ステージ温度：室温 ・最大試料サイズ：φ6inch |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NM-616 |
![シリコンDRIE装置 [ASE-SRE]](data/facility_item/NM-616.jpg)