集束イオンビーム加工観察装置(FIB)
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | AT-034 |
|---|---|
| 分類 | 微小加工装置 > 集束イオンビーム（FIB） |
| 設備名称 | 集束イオンビーム加工観察装置(FIB) (Focused Ion Beam System（FIB）) |
| 設置機関 | 産業技術総合研究所（AIST) |
| 設置場所 | AISTつくば中央 2-12棟 |
| メーカー名 | 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech) |
| 型番 | FB-2100 |
| キーワード | 収束イオンビーム加工 Ga集束イオンビーム FIB加工 TEM試料作製 タングステンデポジッション |
| 仕様・特徴 | ・型式:FB-2100 ・試料サイズ: 18mmφ以下, 高さ10mm以下 ・イオン源:ガリウム液体金属イオン源 ・加速電圧:2kV, 5kV, 10kV～40 kV （低加速電圧対応） ・像分解能:6 nm （SIM） ・ビーム径:3µm, 1.3µm, 600 nm, 320 nm, 120 nm, 60 nm, 10 nm ・イオンビーム電流:0.1nA～68nA （大電流対応） ・デポジションガス:タングステンカルボニル ・マニュピレータシステム:シングルプローブ ・試料ステージ制御:5軸チルトステージ ・ステージ傾斜角度:最大45° |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=AT-034 |
