抵抗加熱型真空蒸着装置
最終更新日：2024年4月5日
| 設備ID | AT-024 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > 蒸着(抵抗加熱、電子線) |
| 設備名称 | 抵抗加熱型真空蒸着装置 (Resistance Heating Vacuum Evaporator) |
| 設置機関 | 産業技術総合研究所（AIST) |
| 設置場所 | AISTつくば中央 2-12棟 |
| メーカー名 | ビームトロン (Biemtron) |
| 型番 | KIS_3 |
| キーワード | 成膜 蒸着（抵抗加熱）/ Evaporation (resistance heating ) 多層膜 |
| 仕様・特徴 | ・型式:KIS_3 ・試料サイズ:3インチφ以下 ・蒸着方式:抵抗加熱蒸発 ・蒸発源:3ポート ・加熱抵抗体:平板ボート、コイル、バスケット ・傾斜基板ホルダ:±15° ・蒸発源―基板間:250 mm ・試料導入:手動 ・真空排気:手動、到達圧力5×10-5 Pa以下 ・成膜制御:手動（ 基板シャッター開閉及びヒーター電力調整） ・膜厚モニター:水晶振動子膜厚モニタ付 ・ソース材料: Al, Ag, Au, Fe, Ni, Cr, Cu, Ti |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=AT-024 |
