電子ビーム真空蒸着装置
最終更新日：2024年4月5日
| 設備ID | AT-023 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > 蒸着(抵抗加熱、電子線) |
| 設備名称 | 電子ビーム真空蒸着装置 (Electeron Beam Vacuum Evaporator) |
| 設置機関 | 産業技術総合研究所（AIST) |
| 設置場所 | AISTつくば中央 2-12棟 |
| メーカー名 | エイコーエンジニアリング (EIKO ENGINEERING) |
| 型番 | |
| キーワード | 成膜 EB蒸着 真空蒸着 蒸着（電子線）/ Evaporation ( electron beam) |
| 仕様・特徴 | ・試料サイズ:100 mm×100 mm×20 mm ・蒸着方式:電子ビーム加熱蒸発、180°配向型 ・蒸発源:8連装（6 kW電子銃） ・クルーシブル容量:10 ml ・基板ホルダ:傾斜ホルダ、冷却機構付(マイナス10℃) ・蒸発源―基板間:300 mm ・試料導入:ロードロック自動搬送 ・真空排気システム:到達圧力3×10-6 Pa以下、オイルフリー、自動排気 ・成膜:水晶振動子膜厚モニタによる自動制御 ・膜厚分布:10 %以内@Φ75mm ・ソース材料: Al, Al2O3, Ag, Au, Cr, Cu, Mo, Pt, Ru, SiO2, Ta, Ti, TiN, TiO2, W |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=AT-023 |
