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超高温炉

最終更新日:2024年4月5日
設備ID BA-022
分類 熱処理・ドーピング > 熱処理、レーザーアニール
設備名称 超高温炉 (Rapid Thermal Annealing (RTA) System)
設置機関 筑波大学
設置場所 総合研究棟B
メーカー名 サーモ理工 (THERMO RIKO CO., LTD)
型番 SR1800TS
キーワード 赤外線ランプ加熱
真空アニール
RTA
熱処理、レーザーアニール/ Thermal treatment and laser annealing
仕様・特徴 ・ 真空中で試料加熱を行うことができ、最大昇温速度は300℃/sec、最高到達温度は1800℃.
・ 昇温速度、熱処理時間等の詳細な熱処理条件をプログラムすることが可能.
・ 試料ホルダーはグラファイト製に加え、石英製も備えられており、酸化性雰囲気での熱処理も可能.
加熱方式:赤外線導入加熱方式、最高到達温度:1800℃、最大昇温速度:300℃/sec、最大到達真空度:5 × 10-5 Pa、加熱面積:φ15mm.
設備状況 稼働中
本設備の利用事例 https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=BA-022
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