超高温炉
最終更新日:2024年4月5日
設備ID | BA-022 |
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分類 | 熱処理・ドーピング > 熱処理、レーザーアニール |
設備名称 | 超高温炉 (Rapid Thermal Annealing (RTA) System) |
設置機関 | 筑波大学 |
設置場所 | 総合研究棟B |
メーカー名 | サーモ理工 (THERMO RIKO CO., LTD) |
型番 | SR1800TS |
キーワード | 赤外線ランプ加熱 真空アニール RTA 熱処理、レーザーアニール/ Thermal treatment and laser annealing |
仕様・特徴 | ・ 真空中で試料加熱を行うことができ、最大昇温速度は300℃/sec、最高到達温度は1800℃. ・ 昇温速度、熱処理時間等の詳細な熱処理条件をプログラムすることが可能. ・ 試料ホルダーはグラファイト製に加え、石英製も備えられており、酸化性雰囲気での熱処理も可能. 加熱方式:赤外線導入加熱方式、最高到達温度:1800℃、最大昇温速度:300℃/sec、最大到達真空度:5 × 10-5 Pa、加熱面積:φ15mm. |
設備状況 | 稼働中 |
本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=BA-022 |