分光エリプソメータ
最終更新日：2024年4月5日
| 設備ID | BA-019 |
|---|---|
| 分類 | 膜厚・粒度測定 > エリプソメーター |
| 設備名称 | 分光エリプソメータ (Ellipsometer) |
| 設置機関 | 筑波大学 |
| 設置場所 | 総合研究棟B |
| メーカー名 | 堀場製作所 (Horiba) |
| 型番 | UVISEL Plus |
| キーワード | 膜厚測定 多層膜 赤外域 エリプソメーター/ Ellipsometer |
| 仕様・特徴 | PEMを利用した位相変調方式により、外光の影響を受けにくい分光エリプソメーター 測定波長：190～2100 nm（波長分解能力：2 nm) スポットサイズ：0.05, 0.1, 1mmφ（垂直入射時)を選択 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=BA-019 |
