微細パターン形成装置群（スピンコーター、マスクアライナー）
最終更新日：2024年4月5日
| 設備ID | BA-011 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクアライナ） |
| 設備名称 | 微細パターン形成装置群（スピンコーター、マスクアライナー） (Photolithography system (Mask aligner, Spincoater)) |
| 設置機関 | 筑波大学 |
| 設置場所 | 共同研究棟C |
| メーカー名 | Neutronix-Quintel/ミカサ ( Neutronix-Quintel/Mikasa) |
| 型番 | Q 2001CT/MS-A100 |
| キーワード | マスク露光 レジスト塗布 光露光（マスクアライナ）/ Optical exposure (mask aligner) |
| 仕様・特徴 | Neutronix-Quintel社製Q 2001CT（2.5インチマスク用コンタクトアライナー） マスク-ウエハ間隔；0-180μm 基板；1cm角～４インチφ マスク；2.5インチ角、5インチ角 光源；200W水銀ランプ(350~450nm) 解像度；0.6～1.0μm マニュアルアライメント；1.0μm 照度分布；≤5%@3.5インチφ ミカサ社製MS-A100（スピンコーター） 基板: 5mm角から4インチφまで |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=BA-011 |
