パターン投影リソグラフィシステム
| 設備ID | BA-009 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクレス、直接描画） |
| 装置名称 | パターン投影リソグラフィシステム (Maskless Lithography System) |
| 設置機関 | 筑波大学 |
| 設置場所 | 共同研究棟C |
| メーカー名 | Heidelberg instruments (Heidelberg instruments) |
| 型番 | μPG501 |
| キーワード | マスクレス露光 光露光（マスクレス、直接描画）/ Optical exposure (maskless and direct drawing) |
| 仕様・特徴 | 描画エリア；125×125mm2 最小描画サイズ；1.0μm 最小アドレッシンググリッド；50nm@1μm 描画スピード；50mm2/min@1μm,100mm2/min@2μm |
