電子線描画装置
最終更新日：2024年4月5日
| 設備ID | BA-005 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 電子線描画（EB） |
| 設備名称 | 電子線描画装置 (Electron Beam Lithography) |
| 設置機関 | 筑波大学 |
| 設置場所 | 共同研究棟C |
| メーカー名 | ELIONIX (ELIONIX) |
| 型番 | ELS-7500EX |
| キーワード | 電子線描画装置 電子線描画（EB）/ Electron beam lithography |
| 仕様・特徴 | 電子銃エミッター：ZrO/W熱電界放射型 加速電圧：5～50 kＶ 最小線幅：10 nm 試料サイズ：最大4インチ ステージ移動範囲： X:100 mm以上 Y:110 mm以上 重ねあわせ精度：40 nm フィールド継ぎ精度：40 nm |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=BA-005 |
