原子層堆積装置 [AD-230LP]
設備ID | NM-611 |
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分類 | 成膜装置 > 原子層堆積(ALD)装置 |
装置名称 | 原子層堆積装置 [AD-230LP] (ALD [AD-230LP]) |
設置機関 | 物質・材料研究機構 (NIMS) |
設置場所 | NIMS千現地区 材料信頼性実験棟 |
メーカー名 | サムコ (Samco) |
型番 | AD-230LP |
キーワード | ALD、原子層堆積、薄膜、絶縁膜、パッシベーション、原子層堆積(ALD)装置/ Atomic layer deposition (ALD) |
仕様・特徴 | ・用途:多種ALD薄膜形成装置 ・仕様成膜方式:サーマルまたはプラズマALD ・原料:TMA, TDMAT, BDEAS, 他 ・酸化剤:H2O, O3, O2プラズマ ・窒化剤:N2プラズマ, NH3プラズマ ・試料サイズ:最大φ8インチ ・その他:ロードロック式 |