原子層堆積装置 [AD-230LP]
最終更新日：2024年2月29日
| 設備ID | NM-611 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > 原子層堆積(ALD)装置 |
| 設備名称 | 原子層堆積装置 [AD-230LP] (ALD [AD-230LP]) |
| 設置機関 | 物質・材料研究機構 (NIMS) |
| 設置場所 | NIMS千現地区 材料信頼性実験棟 |
| メーカー名 | サムコ (Samco) |
| 型番 | AD-230LP |
| キーワード | ALD、原子層堆積、薄膜、絶縁膜、パッシベーション、原子層堆積（ALD）装置/ Atomic layer deposition (ALD) |
| 仕様・特徴 | ・用途：多種ALD薄膜形成装置 ・仕様成膜方式：サーマルまたはプラズマALD ・原料：TMA, TDMAT, BDEAS, 他 ・酸化剤：H2O, O3, O2プラズマ ・窒化剤：N2プラズマ, NH3プラズマ ・試料サイズ：最大φ8インチ ・その他：ロードロック式 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NM-611 |
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