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電子銃型蒸着装置 [RDEB-1206K]

最終更新日:2024年2月29日
設備ID NM-610
分類 成膜装置 > 蒸着(抵抗加熱、電子線)
設備名称 電子銃型蒸着装置 [RDEB-1206K] (EB Evaporator [RDEB-1206K])
設置機関 物質・材料研究機構 (NIMS)
設置場所 NIMS千現地区 材料信頼性実験棟
メーカー名 アールデック (R-DEC)
型番 RDEB-1206K
キーワード 蒸着、薄膜、金属、リフトオフ、電子銃、EB、蒸着(抵抗加熱、電子線)/ Evaporation (resistance heating and electron beam)
仕様・特徴 ・用途:リフトオフ向け金属薄膜形成
・蒸着方式:電子銃型×1式
・ターゲット:12連式(Ti, Cr, Al, Ni, Cu, Pt, Au×2, Pd, Ag, MgO, Co, Fe, AuGe, Ge, 他)
・到達真空度:1.0e-5 Pa
・TS間距離:500mm
・最大試料サイズ:φ6inch
・その他:水冷式試料ステージ
設備状況 稼働中
本設備の利用事例 https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NM-610
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