電子銃型蒸着装置 [RDEB-1206K]
最終更新日:2024年2月29日
設備ID | NM-610 |
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分類 | 成膜装置 > 蒸着(抵抗加熱、電子線) |
設備名称 | 電子銃型蒸着装置 [RDEB-1206K] (EB Evaporator [RDEB-1206K]) |
設置機関 | 物質・材料研究機構 (NIMS) |
設置場所 | NIMS千現地区 材料信頼性実験棟 |
メーカー名 | アールデック (R-DEC) |
型番 | RDEB-1206K |
キーワード | 蒸着、薄膜、金属、リフトオフ、電子銃、EB、蒸着(抵抗加熱、電子線)/ Evaporation (resistance heating and electron beam) |
仕様・特徴 | ・用途:リフトオフ向け金属薄膜形成 ・蒸着方式:電子銃型×1式 ・ターゲット:12連式(Ti, Cr, Al, Ni, Cu, Pt, Au×2, Pd, Ag, MgO, Co, Fe, AuGe, Ge, 他) ・到達真空度:1.0e-5 Pa ・TS間距離:500mm ・最大試料サイズ:φ6inch ・その他:水冷式試料ステージ |
設備状況 | 稼働中 |
本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NM-610 |