リアクティブエッチング装置
最終更新日：2024年4月5日
| 設備ID | CT-019 |
|---|---|
| 分類 | 膜加工・エッチング > プラズマエッチング |
| 設備名称 | リアクティブエッチング装置 (Reactive ion etching system) |
| 設置機関 | 公立千歳科学技術大学 |
| 設置場所 | D101 |
| メーカー名 | サムコ (Samco) |
| 型番 | RIE-10NR |
| キーワード | 各種シリコン薄膜の高精度エッチング、プラズマエッチング |
| 仕様・特徴 | ・高い選択比と高精度のエッチングが可能 ・全自動運転 ・φ8インチウェハーの加工が可能 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=CT-019 |
