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断面試料作製装置(クロスセクションポリッシャ)

設備ID CT-014
分類 微小加工装置 > イオンミリング(TEM試料作製)
装置名称 断面試料作製装置(クロスセクションポリッシャ) (Specimen preparation equipment (CROSS SECTION POLISHER))
設置機関 公立千歳科学技術大学
設置場所 F109
メーカー名 日本電子 (JEOL)
型番 IB-09010CP
キーワード SEM用断面試料の作製
イオンミリング(断面加工)
仕様・特徴 ・イオン加速電圧:2~6 kV
・イオンビーム径:500 μm
・ミリングスピード:100 μm/h
・最大搭載試料サイズ:11 mm(幅) x 10 mm(長さ) x 2 mm(厚さ)
・使用ガス:アルゴンガス
    断面試料作製装置(クロスセクションポリッシャ)
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