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スパッタ装置
設備ID
HK-704
分類
成膜装置 > スパッタリング(スパッタ)
装置名称
スパッタ装置 (Sputtering system)
設置機関
北海道大学
設置場所
工学部C棟
メーカー名
菅製作所 (SUGA)
型番
SSP3000Plus
キーワード
金属膜、絶縁膜製膜
磁性材料製膜
仕様・特徴
成膜材料:1元、Au、Cr、FeNi、SiO
2
等
成膜温度:~300℃
最大試料料サイズ:φ 150mm
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