両面マスクアライナ
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | HK-702 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクアライナ） |
| 設備名称 | 両面マスクアライナ (Double-side alignment Mask aligner) |
| 設置機関 | 北海道大学 |
| 設置場所 | 工学部L棟 |
| メーカー名 | ズースマイクロテック (SUSS) |
| 型番 | MA-6 |
| キーワード | 厚膜レジスト 高性能手動両面マスクアライナ |
| 仕様・特徴 | 両面、露光精度0.6ミクロン 試料サイズ：最大6インチ 基板サイズ：不定形小片～150mm角 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=HK-702 |
