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両面マスクアライナ

設備ID	HK-702
分類	リソグラフィ > 光露光（マスクアライナ）
装置名称	両面マスクアライナ (Double-side alignment Mask aligner)
設置機関	北海道大学
設置場所	工学部L棟
メーカー名	ズースマイクロテック (SUSS)
型番	MA-6
キーワード	厚膜レジスト高性能手動両面マスクアライナ
仕様・特徴	両面、露光精度0.6ミクロン試料サイズ：最大6インチ基板サイズ：不定形小片～150mm角