共用設備検索

電子ビーム描画装置(30kV)

設備ID	HK-701
分類	リソグラフィ > 電子線描画（EB）
装置名称	電子ビーム描画装置(30kV) (Electron-beam lithography system(30kV))
設置機関	北海道大学
設置場所	工学部L棟
メーカー名	エリオニクス (ELIONIX)
型番	ELS-3700
キーワード	マスク作製
仕様・特徴	電子銃エミッター：LaB₆ 加速電圧：1～30kV 最小線幅：100nm 試料サイズ：最大4インチ円弧スキャン可