電子ビーム描画装置(30kV)
最終更新日：2022年6月10日
| 設備ID | HK-701 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 電子線描画（EB） |
| 設備名称 | 電子ビーム描画装置(30kV) (Electron-beam lithography system(30kV)) |
| 設置機関 | 北海道大学 |
| 設置場所 | 工学部L棟 |
| メーカー名 | エリオニクス (ELIONIX) |
| 型番 | ELS-3700 |
| キーワード | マスク作製 |
| 仕様・特徴 | 電子銃エミッター：LaB6 加速電圧：1～30kV 最小線幅：100nm 試料サイズ：最大4インチ 円弧スキャン可 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=HK-701 |
