真空紫外露光装置
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | HK-627 |
|---|---|
| 分類 | 表面処理・洗浄 > その他 |
| 設備名称 | 真空紫外露光装置 (Vacuum ultraviolet light exposure system) |
| 設置機関 | 北海道大学 |
| 設置場所 | 創成科学研究棟クリーンルーム |
| メーカー名 | エヌ工房 (N ceator) |
| 型番 | PC-01-H |
| キーワード | 表面改質 |
| 仕様・特徴 | 試料サイズ：最大1インチ |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=HK-627 |
