共用設備検索

NLDドライエッチング装置

設備ID	HK-622
分類	膜加工・エッチング > プラズマエッチング
装置名称	NLDドライエッチング装置 (NLD Dry Etching System)
設置機関	北海道大学
設置場所	創成科学研究棟クリーンルーム
メーカー名	アルバック (Ulvac)
型番	NLD-500
キーワード	磁気中性子線ガラス等
仕様・特徴	使用ガス：SF₆、CF₄、CHF₃、Ar、O₂、C₃F₈ 試料サイズ：最大4インチ