原子層堆積装置（粉末対応型）
最終更新日：2022年6月10日
| 設備ID | HK-617 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > 原子層堆積(ALD)装置 |
| 設備名称 | 原子層堆積装置（粉末対応型） (Atomic Layer Depositon system (Powder)) |
| 設置機関 | 北海道大学 |
| 設置場所 | 創成科学研究棟クリーンルーム |
| メーカー名 | ピコサン (Picosun) |
| 型番 | R-200 Advanced |
| キーワード | 粉末ALD |
| 仕様・特徴 | 成膜材料：TiO2、Al2O3 試料サイズ：最大8インチ、粉末試料（1g～15g) |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=HK-617 |
