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原子層堆積装置（粉末対応型）

設備ID	HK-617
分類	成膜装置 > 原子層堆積(ALD)装置
装置名称	原子層堆積装置（粉末対応型） (Atomic Layer Depositon system (Powder))
設置機関	北海道大学
設置場所	創成科学研究棟クリーンルーム
メーカー名	ピコサン (Picosun)
型番	R-200 Advanced
キーワード	粉末ALD
仕様・特徴	成膜材料：TiO₂、Al₂O₃ 試料サイズ：最大8インチ、粉末試料（1g～15g)