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原子層堆積装置

設備ID	HK-616
分類	成膜装置 > 原子層堆積(ALD)装置
装置名称	原子層堆積装置 (Atomic Layer Depositon system)
設置機関	北海道大学
設置場所	創成科学研究棟クリーンルーム
メーカー名	ピコサン (Picosun)
型番	SUNALE-R
キーワード	持ち込み材料可
仕様・特徴	成膜材料：SiO₂、TiO₂、Al₂O₃他（原料持ち込み可）試料サイズ：最大6インチ