液体ソースプラズマCVD装置
最終更新日：2022年6月10日
| 設備ID | HK-614 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > 化学蒸着(CVD)装置 |
| 設備名称 | 液体ソースプラズマCVD装置 (Liquid Source CVD Systems) |
| 設置機関 | 北海道大学 |
| 設置場所 | 創成科学研究棟クリーンルーム |
| メーカー名 | サムコ (samco) |
| 型番 | PD-10C1 |
| キーワード | 持ち込み材料可 |
| 仕様・特徴 | 成膜材料：SiO2他（原料持ち込み可） キャリアガス：N2、He、Ar、H2 試料サイズ：最大3インチ |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=HK-614 |
