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液体ソースプラズマCVD装置

設備ID	HK-614
分類	成膜装置 > 化学蒸着(CVD)装置
装置名称	液体ソースプラズマCVD装置 (Liquid Source CVD Systems)
設置機関	北海道大学
設置場所	創成科学研究棟クリーンルーム
メーカー名	サムコ (samco)
型番	PD-10C1
キーワード	持ち込み材料可
仕様・特徴	成膜材料：SiO₂他（原料持ち込み可）キャリアガス：N₂、He、Ar、H₂ 試料サイズ：最大3インチ