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プラズマCVD装置

設備ID	HK-613
分類	成膜装置 > 化学蒸着(CVD)装置
装置名称	プラズマCVD装置 (Plasma Enhanced CVD system)
設置機関	北海道大学
設置場所	創成科学研究棟クリーンルーム
メーカー名	サムコ (samco)
型番	PD-220ESN
キーワード	絶縁膜
仕様・特徴	成膜材料：SiO₂、SiN 試料サイズ：最大8インチ