プラズマCVD装置
最終更新日：2022年6月10日
| 設備ID | HK-613 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > 化学蒸着(CVD)装置 |
| 設備名称 | プラズマCVD装置 (Plasma Enhanced CVD system) |
| 設置機関 | 北海道大学 |
| 設置場所 | 創成科学研究棟クリーンルーム |
| メーカー名 | サムコ (samco) |
| 型番 | PD-220ESN |
| キーワード | 絶縁膜 |
| 仕様・特徴 | 成膜材料：SiO2、SiN 試料サイズ：最大8インチ |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=HK-613 |
