イオンビームスパッタ装置
最終更新日:2022年6月10日
設備ID | HK-612 |
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分類 | 成膜装置 > スパッタリング(スパッタ) |
設備名称 | イオンビームスパッタ装置 (Ion beam sputtering system) |
設置機関 | 北海道大学 |
設置場所 | 創成科学研究棟クリーンルーム |
メーカー名 | アルバック (Ulvac) |
型番 | IBS-6000 |
キーワード | 金属膜、カーボン |
仕様・特徴 | 成膜材料:4元、Ni、Cr、SiO2、W-Si他 試料サイズ:最大3インチ |
設備状況 | 稼働中 |
本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=HK-612 |