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イオンビームスパッタ装置

最終更新日:2022年6月10日
設備ID HK-612
分類 成膜装置 > スパッタリング(スパッタ)
設備名称 イオンビームスパッタ装置 (Ion beam sputtering system)
設置機関 北海道大学
設置場所 創成科学研究棟クリーンルーム
メーカー名 アルバック (Ulvac)
型番 IBS-6000
キーワード 金属膜、カーボン
仕様・特徴 成膜材料:4元、Ni、Cr、SiO2、W-Si他
試料サイズ:最大3インチ
設備状況 稼働中
本設備の利用事例 https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=HK-612
    イオンビームスパッタ装置
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