コンパクトスパッタ装置
最終更新日：2022年6月10日
| 設備ID | HK-610 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > スパッタリング（スパッタ） |
| 設備名称 | コンパクトスパッタ装置 (Compact Sputter) |
| 設置機関 | 北海道大学 |
| 設置場所 | 創成科学研究棟クリーンルーム |
| メーカー名 | アルバック (Ulvac) |
| 型番 | ACS-4000-C3-HS |
| キーワード | 加熱成膜 |
| 仕様・特徴 | カソード4元（DC3元、RF1元） 成膜材料：SiO2、Au,Cr、Mo等 基板サイズ：10mm～4インチ（リフトオフ仕様では25mm角まで） 基板加熱機構有り（～550℃） |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=HK-610 |
