ヘリコンスパッタリング装置
最終更新日:2022年4月9日
設備ID | HK-609 |
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分類 | 成膜装置 > スパッタリング(スパッタ) |
設備名称 | ヘリコンスパッタリング装置 (Helicon sputtering system) |
設置機関 | 北海道大学 |
設置場所 | 創成科学研究棟クリーンルーム |
メーカー名 | アルバック (Ulvac) |
型番 | MPS-4000C1/HC1 |
キーワード | 対向成膜 ロングスロー |
仕様・特徴 | カソード:3元(マグネトロン4インチ、ヘリコンDC2インチ、ヘリコンRF2インチ) 成膜材料:Au,Cr,Ti 試料サイズ:最大4インチ |
設備状況 | 稼働中 |
本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=HK-609 |