EB蒸着装置
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | HK-607 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > 蒸着(抵抗加熱、電子線) |
| 設備名称 | EB蒸着装置 (EB vacuume evaporation system) |
| 設置機関 | 北海道大学 |
| 設置場所 | 創成科学研究棟クリーンルーム |
| メーカー名 | エイコー (Eiko) |
| 型番 | EB-580S |
| キーワード | 高真空EB蒸着 |
| 仕様・特徴 | 蒸着源:Au,Ti,Al,Cu,Nb 基板加熱可(600℃程度まで) 水晶振動式膜厚計 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=HK-607 |
